マサチューセッツ州ビバリー、2024 年 1 月 22 日 /PRNewswire/ -- 半導体業界向けのイオン注入ソリューションを実現する大手サプライヤーである Axcelis Technologies, Inc. (ナスダック: ACLS) は本日、革新的な Purion™ プラットフォームを展示すると発表しました。このイベントは、1 月 31 日から 2 月 2 日まで、韓国ソウルの COEX センターで開催されます。 Axcelisはブース#D712に位置します。半導体メーカーは、Axcelis の展示会を訪れ、重要な技術と製造上の利点をもたらす革新的なイオン注入ソリューションについて直接学ぶことができます。これには以下が含まれます。 Purion H™ シリーズ - Purion H5™ および Purion Dragon™ を含み、どちらも高電流インプラント用の包括的なソリューションを提供するように設計されています。 Purion H200™ - Axcelis の最先端の枚葉式高電流中エネルギー注入装置で、モノのインターネット (IoT) および電力アプリケーション用に設計されたデバイスの固有の注入ニーズに対応するように設計されています。 Purion XE™ シリーズ - 特許取得済みの Boost Technology™ を備え、最先端のイメージ センサー アプリケーション向けに設計された Purion XEmax を含む、業界をリードする高エネルギー インプラント プラットフォームです。
